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MIDAS MDA-400LJ 掩模对准曝光系统

库存状态:现货

MIDAS MDA-400LJ是一种高精度的掩模对准器,专为用于微加工应用的平板掩模的对准和曝光而设计。该装置由一个支撑一个或多个平面掩模图样板的基板支架、准分子激光光源和一个3轴线性电动机驱动系统组成。激光光源可用于以预设剂量照射选定的图样板。3轴直线电机系统用于精确控制图样板与基板支架之间的距离,从而确保设备两个元件之间的完美对准。基板支架由光学编码器驱动,该编码器将基板精确对齐以进行曝光。编码器测量图样板和基板相对于参考位置的距离,定义为X、Y和Z轴的交点。此信息随后被设备用来调整图样板的位置,以便精确对齐基板。MDA-400LJ配备了分辨率为0.2 µm的X-Y表,可以精确控制基板支架的运动,并在必要时调整其位置。此外,该设备还提供了一个集成的线性编码器,确保在曝光期间基板位置的非常高的稳定性。此外,该设备还提供了一个高分辨率的标线,可减少相邻掩码之间的间距误差,从而确保超精细的图案配准。该装置高度可靠,设计为在广泛的温度范围内重复运行。此外,MIDAS MDA-400LJ设计为与自动掩码加载器系统集成,使设备能够在连续操作模式下运行。该装置还配备了全方位的安全功能,可以由交流电源或直流电源供电。总体而言,MDA-400LJ是一个非常好的面膜对齐器,适用于许多微加工应用.其高精度特性和稳定性,以及安全特性,使其成为微加工过程中进行掩模对准和曝光的理想装置。

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