MIDAS MDA-12FA是为晶圆级器件制造而设计的先进光刻掩模对齐器。它设计用于处理各种类型的晶片成形过程，包括高通量晶片级计量和晶片级封装。设备能够处理6英寸、8英寸、12英寸和15英寸的晶圆，可以精确对准50微米或更高分辨率。该系统由主机、光刻头和舞台机构组成。大型机包含电源表和操作控制系统，以及为机器组件供电的主电气单元。光刻头是工具最重要的部分，包含了一套高分辨率的光学器件和主级机构。光学器件用于精确调整掩模水平,从而确保整个晶片的均匀曝光。该级机构允许晶片和掩模沿着X和Y轴精确对齐。除了主框架和光刻头，资产还包括一系列的工具，包括对准监视器和软件。对准监视器用于测量晶片在模型中的精确位置。该软件用于控制光刻过程的各个阶段，包括光刻胶的浓度、曝光时间和聚焦水平。MDA-12FA被设计为与其他光刻系统和设施集成在一起,以便于访问各种特征大小和复杂程度。该设备具有可调整以改善聚焦的特性，也可用于基板的高精度对准和成像。MIDAS MDA-12FA是一种先进的掩码对齐器,可提供改进的晶圆级设备制造。它专为处理各种晶片成形过程而设计，具有高达50微米的精密对准能力。该系统易于与其他光刻系统集成，并提供了一系列有助于改善聚焦和成像特性的功能。