KARL SUSS/MICROTEC MJB-55是一种用于光刻工艺的掩模对齐器。这种对齐器旨在促进微结构在晶圆或其他基板上的精确定位。它使研究人员和工程师能够精确地制造非常小的集成电路和微观结构,并具有高精度和可靠性。面罩对准器包括一个明亮而均匀的光源，该光源由氙弧灯和卤素背光组成，为投影镜头提供均匀照明，并确保一致的对准精度。它还具有先进的光学系统,可提供全方位的场大小和分辨率,使用户能够在更高的纵横比几何形状上获得更高的精度级别。MICROTEC MJB-55利用放大率控制（M-Collor）自动调整镜头放大率以保持分辨率,即使对准位置发生变化。机器严格的安全功能确保符合最新的安全标准。这些特点包括几层丰富的环保，包括光源的快门和减少静电的电离空气系统。X-Y级能够以90、180和360度的受控行进范围移动直径达12英寸的大型晶片。Z轴与直接驱动电动机集成在一起,以确保一致的行程和精度。通过跟踪Y级和Z级的精度并补偿热膨胀引起的任何误差的编码器，可以实现定位精度。除了精密组件和高级软件外,KARL SUSS MJB55还提供了灵活性,以适应广泛的应用。这台机器能够对准多达4级的口罩，允许它用于多级金属化、薄膜和玻璃斜角等过程。MJB-55是一种可靠、高性能的掩模对齐器,即使是最小的组件也能以惊人的精度准确处理。此对齐器具有许多高级功能和选项,为可重复和可靠的结果提供了一个通用且经济高效的解决方桉。