KARL SUSS/MICROTEC MA-151是微电子工业中用于制图薄膜和晶圆加工、光刻和光刻的计算机控制掩模对齐器。该设备包括一个XYZ移动级、高精度定位系统和一个独特的投影光学单元，该单元允许晶圆或基板上的图桉和特征精确对准和曝光。MICROTEC MA-151能够对直径不超过4.0英寸的晶片进行阵列设计。KARL SUSS MA-151的XYZ移动阶段允许基板和掩模相对于彼此进行高精度定位。其高精度定位机使用一系列激光对准传感器，可检测到低至0.2微米的失准，确保掩模与基板完美对准。这样就可以实现精确的高分辨率阵列。MA-151的投影光学工具包括一个最先进的工业领先的卡尔蔡司镜头，一个高功率的氙灯，和一个光控制器。这种组合允许纳米尺度特征以非常高的分辨率在基板上形成。KARL SUSS/MICROTEC MA-151的光控制器具有广泛的可调设置，包括曝光持续时间和强度，使用户可以微调特定应用程序的制图过程。MICROTEC MA-151使用了获得专利的干式移动机制,可提高效率和结果的可重复性。这样可以减少设置时间和每个周期之间所需的时间。资产还配备了全面的图形用户界面，及时反馈模型的现状，以及各种操作的进度。总之，KARL SUSS MA-151是一种高精度的掩模对准器，用于对晶片或具有纳米尺度特征的基板进行阵列设计。其精密的XYZ移动台、高精度的定位设备和先进的投影光学器件确保了微电子特性的精确对准和曝光，使MA-151成为光刻和薄膜晶片加工、检验和光刻操作的理想选择。