KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2是光刻工艺中使用的半自动蒙版对齐器。该掩模对齐器用于处理光掩模和晶片基板，以创建高精度和精确度的设备。Gen 2具有许多功能,可以在蚀刻和制造半导体器件时提高速度、精度和可靠性。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2利用最新的光学技术和自动精确对准,实现精确的小规模阵列。掩模对齐器是自订配置，以满足使用者的需求，其特性包括可调节的掩模放置场、用于掩模传输和对准的步进电机驱动系统，以及高精度的掩模定位系统。此外，其先进的温度控制技术确保了沉积和模式的一致结果。为确保精度,KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN2能够实现亚微米分辨率,精度高达+/-20 nm。用户可以配置对齐器来处理各种基板,包括直径最大为8英寸的基板。此外,计算机还具有灵活的体系结构,使用户能够自定义其设置,以满足各种应用程序和流程要求。KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2适合制造一系列半导体器件，如集成电路、晶体管和内存芯片。此外,它的软件包允许用户执行全面的数据记录和分析,使用户能够轻松、自信地监控其计算机的性能。KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen 2是一种可靠、高效的掩模对准器，旨在提高小规模光刻的吞吐量和准确性。凭借先进的光学性能和精确的对准能力,Gen 2确保了高质量的结果。它具有可自定义的选项，是任何半导体制造应用的完美工业工具。