KARL SUSS/MICROTEC MA 8是设计用于光刻实验室的掩模对齐器。该设备为最具挑战性的工作提供了无与伦比的精确度和卓越的处理能力。它是一种最先进的、计算机控制的光学对准工具，用于创建具有微观和纳米分辨率的接触面罩和成像面罩。MICROTEC MA8提供多种功能,使其成为光刻的理想掩模对齐器。它具有自动化、实时对准、微米精确步进电机导航、快速晶片装卸和广泛的工作范围。此外,系统还配备了高重复率、多个光学枢轴和可调节的UV光学外壳,从而实现了最佳的对准稳定性和准确性。设备方便用户,需要时易于调节。KARL SUSS MA-8能够处理玻璃、硅、石英和蓝宝石等各种基材材料，基材范围从几毫米到两英寸不等。这台机器能够生产具有专业质量效果的激光蚀刻和阴影蒸发口罩。此外，自动对焦技术允许精确和精确的面罩定位，在每次曝光完美对准。KARL SUSS MA 8以其直观的操作菜单、自动滚筒、传送带工具和曝光台提供了最新的轴向运动控制和工作场所安全。此外,曝光程序还自动计算最佳曝光时间,并提供最多80个晶圆或20个掩模支架的处理能力,最大平移范围为5 x 5英寸。总之，KARL SUSS/MICROTEC MA-8是一种多用途、可靠的掩模对齐器，为光刻应用提供了众多的特点。用户友好的界面、精确的对齐能力和各种各样的基板处理使这一资产成为不同光刻实验室和工艺的理想选择。