KARL SUSS/MICROTEC MA 760是一种计算机控制、基于光学投影的掩模对准器，设计用于等离子体蚀刻和光敏涂层晶圆曝光。它非常适合掩蔽和计量应用,是市场上最先进的自动曝光系统之一。MICROTEC MA 760提供了卓越的对准精度和高度自动化的曝光临界光刻工艺。它具有激光干涉级、双高像素密度相机、高速处理系统和精密高清处理器。强大的曝光系统的光机械子系统为用户提供了最高水平的准确性、可重复性和吞吐量。KARL SUSS MA 760的高分辨率相机和10：1投影光学器件使对准精度优于2微米，边缘放置性能极佳。它具有高动态范围成像（HDRi）功能,可改善边缘和地形识别,同时两台内线扫描摄像机可检测到比常规照片掩模更详细的边缘细微特性。MA 760可以处理广泛的基板尺寸和形状，并配有安全的边缘处理系统，能够在无需人工干预的情况下自动加载、对准和暴露基板。它还可以在大面积上提供出色的透晶片均匀性。这款用户友好型软件提供全面的流程控制和数据分析,以及一套全面的流程监控算法,确保了最低限度的干预和易用性。它还提供自动数据日志记录和高级报告功能，包括晶圆对晶圆的数据追踪和报告导出。KARL SUSS/MICROTEC MA 760可靠、持久且易于维护,这要归功于其坚固的结构和稳定的运行。1000类洁净室规定确保设备在其产品使用寿命期间仅需要适度的维护。所有这些特性使得这台机器成为要求苛刻的光刻应用的绝佳选择。