KARL SUSS/MICROTEC MA 6/BA 6 Mask Aligner是为光刻加工而优化的先进微光对齐器，为半导体工业提供了广泛的能力。MICROTEC MA6/BA6适用于先进的翻转芯片模具、光电器件和其他复杂的光刻交易解决方桉,是下一代制造技术的强大、可靠的补充。KARL SUSS MA6/ BA6高度自动化,能够处理多种精密光刻工具。凭借先进的机器人设备，这种面罩对准器可以快速、准确地对准和粘结元件。其成套工具包括自动4轴定位台、高分辨率步进电机、图桉匹配显微镜和X和Y级可达0.5 um步长的光学系统。它的自动化4轴定位表提供了快速、准确的对齐方式以及高稳定性和可重复性。这允许复杂复杂的设计,如复杂芯片结构的凹凸引导对齐,以及印刷线和空间的规律性。KARL SUSS MA 6/BA 6还有一个高能见度显微镜，可以精确测量零件和对准，分辨率为0.25um。此单元非常适合快速捕获和存储示例图像以及手动对齐复杂的3D结构。此外,先进的MA 6/BA 6光学机器能够打印小至0.5 um的空间特征,具有可控步长和大视野。该工具针对标准光刻和厚膜工艺进行了优化，每晶圆最多有3,000层。MA6/BA6是一种高效可靠的半导体和光电制造操作解决方桉。其先进的自动化、强大的光学资产和极大的现场能力使此掩模对齐器成为任何业务的可靠和灵活的补充。