KARL SUSS/MICROTEC MA 56/ MJB55是专门为微观元件的精确阵列和对准而设计的掩模对准设备。MA 56将基板保持在精确控制的真空兼容卡盘中，而MJB55是执行所有微对准和定位功能的两级对准和x-y-z定位系统。它们共同为先进微电子芯片制造中采用的掩蔽和光刻步骤提供了极高的精度和可重复的结果。MA 56利用高精度级进行平坦基板对准和图样化，能够在X、Y、Z方向提供0.1微米（100纳米）范围内的精度。舞台的行程范围为400 x 400mm（15.7 "x 15.7"），精度为+/-2um（0.08"）。头部安装在单轴倾斜角级，精确到+/-10弧秒，360度连续旋转级。MJB 55是一个具有6轴运动（x-y-z、θ x、θ y和θ z）的舞台控制掩模对准单元。它的行程范围为70 x 70mm（2.75 "x2.75"），定位精度为+/-2um（0.08"），能够达到2 deg/s的转速。也是c能3K速度扫描，适合亚微米精度。MA 56和MJB 55可以处理从4 "x 4"到12 "x 12"的各种掩模尺寸，并且既兼容标准的光成像板，又兼容基板。该机还具有多种确保高精度的功能，包括自动间隙检测以确保基板平行性，以及自对准步骤和重复例程。MICROTEC MA 56/ MJB55是执行高级IC制造所需的所有掩蔽和光刻步骤的理想工具。它提供了准确和可重复的结果,其广泛的特性和功能使其成为芯片制造商寻找高精度阵列和调整其微分子的不可或缺的工具。