KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6是一种通用的掩模对齐器，提供了一种高度精确的方法来将微尺度和大尺度的特徵图样化到基板上。这项先进的技术可帮助用户创建对任何应用都至关重要的复杂模式,从印刷电路板到金属氧化物半导体（MOS）制造等。MICROTEC MA 4/6具有从± 2 µm到± 20 µm的对准精度范围,允许在创建复杂和高级模式时达到最高的对准标准。该设计还包括一个12轴定位设备，提供最佳定位和操纵阵列场-这是纳米光刻应用的一个关键因素。KARL SUSS MA 4/6配备了长寿命的"无气泡"气泡系统,可提供光学器件和晶片表的总稳定性,为多年的运行提供最高水平的可重复结果。镜头成像由寿命长、功耗低的高NA光学系统提供。这包括一个可变视场，可以从直径20 µm调整到30 µm。此外,KARL SUSS/MICROTEC MA 4/6还提供单元支持、用户友好的前面板菜单和PC集成,以确保易于使用。该机还配备了前置预对准模块、图像分析能力和粒子监控工具。测量暴露晶片表面的尺寸精度,确保与图样精确对齐.另外还有一些主动气体净化系统，如Sip-Purge或TurboPurge，可以防止气体在资产中积聚，从而确保恶劣的运行条件。总之，MICROTEC MA 4/6是一种高精度的掩模对准模型，适合各种需要精确成像的应用。其精度范围、12轴定位设备、使用寿命长的气泡系统以及出色的光学器件，使其成为纳米光刻应用的理想解决方桉。该系统还提供了一些功能,如预对准、图像分析、单元支持、PC集成和粒子监控,这些功能提供了易用性并产生了非常准确的结果。