KARL SUSS/MICROTEC MA 200是一款精密掩模对齐器,以其先进的功能和易用性特别突出。MICROTEC MA200是为满足各种光刻需要而设计的,包括微机械、微流体、微光和半导体工艺。KARL SUSS MA-200提供全方位的光刻功能，如先进的成像优化、迭加精度、剂量控制、相同的工具切换以及温度、真空和清洁的集成监控。它具有许多自动化功能,可最大程度地减少用户输入,使其成为需要精确对齐和可重复性的用户的理想选择。KARL SUSS/MICROTEC MA200具有高度可定制的用户界面,使用户能够最精确地控制其操作。它配备了众多优化基板处理的平台选项，包括陶瓷板、加热板以及电动面罩和晶片。它可容纳6英寸和8英寸晶圆，并具有0.25微米的迭加精度、0.05 µm/min的曝光率以及100 x 140mm的最大写入格式。KARL SUSS/MICROTEC MA-200是一种全自动激光对准器和机器，具有先进技术，如精确测量系统、高分辨率光学器件、精密台式驱动系统和温度控制。它采用了具有SUSS优势的激光对准系统，能够在晶片上精确定位掩模，而无需任何掩模提升。电控轴电机使对齐器的表驱动器能够与对齐过程完美同步,从而实现无与伦比的精度。MA200有一个集成的硬盘,可存储所有对齐器参数和吞吐量数据,从而便于参考和访问。此外，它与SEMI PV3000界面兼容，使用户能够与其他设备进行自动数据交换。此外,MA-200符合CE和EC的要求,同时遵守工业和安全标准。总之,MA 200是一种高性能的掩模对准器,具有用户友好的界面、先进的激光对准技术和先进的基板处理能力。它提供了尽可能高的准确性和可重复性，使其成为所有光刻需求的完美选择。