KARL SUSS/MICROTEC MA 150 M是一种多用途的掩模对齐器，用于各种模式生成、光刻工艺和精确对齐任务。它能够进行高分辨率接触曝光、接近曝光、层对准和3-D对准。掩模对准器包括具有集成精密定位级的先进控制设备、8 "x 8"石英曝光源、用于XY对准的高精度CCD传感器和XY对准计算机。掩模对准器内的精密定位系统可提供出色的重复性、准确性和稳定性。它使用压电执行器在X、Y和Z方向上进行精确校正。此单元允许在曝光过程中对工件进行精确对齐和正确定位。曝光源利用先进的准直器光学器件，在工作领域产生均匀的光束。这样可以确保图样在光刻过程中被精确曝光。CCD传感器提供高精度的检测和对准能力，能够对准亚微米级。面罩对齐器还设有一台计算机控制机，内建个人电脑，用于控制设备操作和执行数据处理。计算机具有易于使用的图形用户界面，便于编程和结果显示。该工具还包括一个数字键盘和一个视频监视器，用于可视化和与资产交互。MICROTEC MA 150M兼容包括MICROTEC MA 150 Mask Aligner Table在内的多种蒙版和曝光工具，以及I-Line、248 nm、365 nm曝光工具等多种配件和曝光工具。KARL SUSS MA-150M与许多基材、材料和图样兼容，还提供多种对齐和曝光功能。总体而言,KARL SUSS MA-150 M掩码对齐器是一种高效、高精度的设备,可提供出色的阵列生成、光刻和对齐功能。它旨在产生定义的特征和可重复的准确性和稳定性,从而产生卓越的曝光和对齐结果。