KARL SUSS/MICROTEC MA 100E是一种掩模对齐器，旨在为半导体晶片和其他基板的应用提供光刻服务。是一种精密定位设备，精度高，可重复性强。MICROTEC MA100E非常适合于需要在半导体基板上精确排列微小零件或元件的研究目的。它能够以± 1微米的精确对准精度来暴露具有遮罩图样的基板。它通过选择曝光工具提供了多功能性,这些工具包括自动聚焦6英寸蒙版支架、6英寸步进器或6英寸扫描仪。步进器和扫描仪有各种标线,可用于不同的掩模尺寸。KARL SUSS MA 100 E的对齐表是机动化的，具有精确的网格定位系统，确保基板和掩模的精确和可重复对齐。自动快门功能可实现快速、准确的对齐。此功能通过一个便于数据输入和程序选择的软触摸键盘启用。KARL SUSS MA100E设计有两个光学系统，一个用于对准，另一个用于曝光。对准系统配备了与编码器串联工作的半逆视频显微镜。曝光系统是带有自动快门的高级紫外线灯。MICROTEC MA 100E附带了一整套软件,以方便编程、数据输入、过程控制和对齐。它能够控制曝光强度、面膜的接近程度以及曝光过程的时机。MA100E适用于高精度/高吞吐量应用程序。制造过程要经过一系列内部测试，以认证最优质的质量标准。此对齐器符合最新的安全标准,包括CE和SEMI S2-9001。