KARL SUSS/MICROTEC CIC1000是一种掩模对齐器，用于光刻制造集成电路（IC）。它旨在利用其创新的对准系统和图像分析技术，快速、精确地将光掩模对准硅晶片上的目标区域。该机具有低移动级设计，低污染，精确度高。机器由一个步进站组成，该步进站的设计目的是将图像投射到晶圆上。步进站具有计算机控制的定向系统，能够在晶圆表面上精确旋转掩蔽图桉。平台设计成x、y两轴移动，并设有可调高的微调定位。该机还具有激光干涉仪对准系统，能够测量掩模相对于晶圆的精确位置。MICROTEC CIC 1000的图像分析软件设计用于分析晶圆表面上的图样和图像密度,以便精确放置图样。此软件允许用户识别要用于0.25 µm或以上的DoD级别的区域。它还具有用于编辑和修改模式的交互式环境,并具有用于检查配置的预览显示。KARL SUSS CIC1000的整体精度极佳，其吞吐量比传统的手动掩模对齐器快得多。该机还具有全自动过程控制功能和集成的车载PC,用户可以在软件包之间进行切换以方便操作。此外,该机器还具有多种安全功能,可确保机器使用时的高度安全性。总之，CIC1000是一种高度可靠和精确的掩模对准器，旨在产生一致和高质量的集成电路。它还易于操作和维护,能够达到精细的细节水平。