KARL SUSS/MICROTEC 505是一种高性能的Mask Aligner设备，设计用于在光刻等应用中对齐光掩模和晶片。这是一个高度精确的系统，有一个集成的计算机控制器，使对准精度低至0.7 μ米。该单元由两个主要组成部分：晶圆对齐（WA）表和标线对齐（RA）表。这两张桌子都配有微米式的X和Y平移级，以及两个精细的Z级。精细的Z级允许X和Y轴的独立调整。为了使光掩模和晶片对齐,Mask Aligner机器使用了视觉工具。此资产使用LED或激光投影仪和图像捕获设备来定位和测量蒙版和晶片上的参考点。此外,该模型还可用于光学蒙版检查、3D轮廓测量或离线自动定心。设备中包含的软件旨在支持与掩码对准、测量和检查有关的各种任务,并提供简单易用的用户界面。此外,Mask Aligner系统还提供出色的准确性和分辨率。它配备了两轴对准微米刻度，能够记录0.7 μ米以下的位移。当将光掩模和晶片与微米大小的特征对齐时，这种精确度是必不可少的。最后，该单元提供了一个集成的报警机器，以警告操作员任何不对齐或不规则性。总体而言,MICROTEC 505 Mask Aligner是一款功能强大的工具,可在Mask对齐过程中提供精确、准确和可靠的性能。其集成的视觉工具、高分辨率、警报资产和用户友好的软件使其成为光刻应用的理想选择。