KARL SUSS/MICROTEC 260MS022 Mask Aligner是一种强大而精确的光刻设备,用于厚抗蚀剂和多层应用。它是市场上最先进的掩模对齐器之一,具有独特的功能组合：高吞吐量、优化的光学元件（准确性和速度）、高质量的图像分辨率以及可靠的自动化（高效和用户友好的操作和维护）。MICROTEC 260MS022使用双轴铸铁闭环系统，沿着X和Y轴精确移动标线和基板支架，并精确聚焦标线和基板。两轴铸铁设计有助于提高稳定性和减小振动，提供卓越的对准精度。对准器还配备了12 µm垂直长距离位移和内置的3D轮廓仪，用于测量和验证暴露后的抗蚀剂轮廓。对齐器由一个先进的软件平台提供动力，提供用户友好的操作和维护所需的所有功能。它包括强大的跟踪、对准和检查功能,可自动提供精确的结果。此外,它还提供实时监控、调整功能以微调对齐过程,以及用户友好的图形用户界面,用于控制和组织工作流。KARL SUSS 260MS022能够以125 µm/s的速度达到非常精确的± 2 µm的对准精度。设备的放大倍率范围为0.75X至12.5倍,分辨率为3lp/cm至200lp/cm。对齐器能够在吞吐量为25至40晶圆/小时的单面或双面基板上提供2 "x 2"至8 "x 8"全场处理。Mask Aligner还配备了光源和亮场照明，以增强控制和精度。这些特性加上高质量的光学和精密工程,使260MS022能够提供卓越的性能、准确性、可靠性和成本效益。这种综合设备旨在满足大批量生产环境的需求，是PCB、MEMS和半导体行业光刻应用的理想选择。