HTG 84-3是半导体器件制造过程中使用的掩模对齐器。它是一种先进的工具，能够以最高的精度和精确度对半导体掩模进行对准和阵列化。84-3的主要部件包括一个掩模对准主单元、一个真空室和一个真空设备。掩模对准器主单元由X-Y级、激光对准系统、真空单元组成。掩模对准主单元负责将掩模、激光投影机和真空对准级移动到真空室内的适当位置。激光投影工具由激光源、准直仪和一系列将激光束投射到掩模和晶圆上对准的透镜组成。激光源通常是氦-硼（He-Ne）激光器。准直器用于将激光束聚焦在掩模或晶圆的小直径上。激光投影资产还包括一个检查模型，用于检测掩模和晶圆的位置和形状的不规则性。检查设备由一系列摄像机组成，这些摄像机能够捕获掩模和晶片的图像，然后将图像与预先编程的数据进行错误比较。真空室用于密封掩模和晶片，以便精确对准。该腔室包含一个真空系统，它可以防止压力累积，从而干扰对准过程的精度。真空装置还保护掩模和晶片免受尘埃颗粒或其他碎片的污染。HTG 84-3非常精确,能够将掩模和晶片对准0.0025mm的精度。机器也很快，能够在0.2秒内对准掩模和晶片，并且可以用于各种应用，如接触和非接触掩模。总体而言,84-3是一款用途广泛且可靠的掩模对齐器,旨在提供卓越的性能和准确性。其精度和精确度使其成为半导体器件制造的宝贵工具。