EVG/EV GROUP EV 640R Mask Aligner是一种先进的工具,旨在为大量生产光子、电子和纳米技术组件提供基板和mask图样之间的精确对准。EVG EV 640R适用于半导体、MEMS和NEMS生产、光学光刻、微流体制造和其他以纳米技术为中心的工业过程。EV GROUP EV 640R Mask Aligner提供高达6.4 "x 6.4"基板的精确、高精度对准,并具有衍射限制的完美和长期稳定性。电动汽车640R利用两个独立的轨道电动机进行优化定位，并对基板和遮罩图样进行快速、精确的对准。这允许进行低成本的光刻处理,在这些处理中,可以在更少的时间和能耗的情况下实现最高分辨率的特征。EVG/EV GROUP EV 640R非常适合需要纳米对准分辨率的工业应用。该系统采用自动聚焦光学传感，在生产过程中提供70纳米及以下的自动测距对准精度。EVG EV 640R除了可以精确对准掩模和基板外，还可以用于精确测量基板上各点之间的距离。EV Group EV 640R利用精确可靠的保护算法以及高精度的模式对齐识别。这样可以确保基板和蒙版上的图桉始终是一致的。该系统还配备了一个专利索引和平整技术，用于在基板和面膜之间进行精确的平面化。除了对准精度外,电动汽车640R还具有多种提高生产率的选项。这包括自动夹紧晶片，精确覆盖的高精度光束控制，以及对软基板的平缓处理的优化真空控制。EVG/EV GROUP EV 640R提供快速的生产率和高可靠性。其庞大的工作区域、可扩展的设计和快速的掩模转换都使EVG EV 640R生产过程中需要快速吞吐量和准确性的宝贵设备。该系统配备了大触摸屏显示屏和人性化界面，使得EV GROUP EV 640R那些希望提高生产效率的人的绝佳选择。