EVG（EV GROUP）EVG/EV GROUP EV 640是一款设计用于半导体工业的高度先进的掩模对齐器。该设备非常适合光掩码对准、晶圆沉降、处理参数设置和对准精度。具有高精度XY Ω定位系统，可重复性为+/-7.5 μ m，非线性为+/-10 μ m。舞台由最大速度0.18 m/min的线性驱动器驱动。实现了高精度的位置重复性和稳定性,以及低热漂移.EVG EV 640配备了高分辨率晶圆对准系统和集成激光计量单元。晶圆对准机提供高度精确的对准，偏移误差为30 nm，使用集成激光束的精度高达10 nm。激光计量工具的自动扫描模式和功率优化确保高吞吐量和精度.此外，EV GROUP EV 640具有ST Marks、优化数码相机以及获得专利的M2M（口罩到口罩）技术，用于精确对准。EV 640设计用于高精度光掩模对准，并配有真空门和软件控制的疏散程度。利用其光学测量相机和ST标记,确保了掩模特征的准确和可重复的定位。高精度步进电机确保了口罩的精确对准，集成TDC-5电机控制器提供了对电机运行的精确控制。EVG/EV GROUP EV 640适用于后端光刻应用，如MEMS和通孔光刻。资产包括广泛的软件功能，如自动晶片装卸、智能晶片映射和对齐跟踪，以确保快速准确的对齐。它还与大批量生产的全自动批量处理和跟踪兼容。总体而言,EVG EV 640掩模对准器是为高级光刻应用而设计的强大而精确的平台。高精度和可重复性使其成为最苛刻的生产环境的理想选择。EV GROUP EV 640具有集成的系统和强大的软件,是任何半导体实验室或生产设施的重要工具。