EVG/EV GROUP 620NT是一种掩模对齐器，旨在支持半导体制造等行业的先进电离辐射（电子束）和光学光刻要求。其对齐器提供精确的光掩模图样与晶圆表面对齐，确保了设备特征的精确复制和性能的均匀性。EVG 620NT具有先进的双梁设备,能够定位和定位各种模式,并具有亚像素精度和岩石-固体稳定性。它的广角光学提供了无与伦比的视场，并且可以一口气对齐大面积的图桉。此外,该系统还提供了一个高效的工作环境,具有现代化的GUI和几种易于操作的工具,包括用于处理掩码和晶圆的机器人技术。EVG EV GROUP 620NT的性能因其高分辨率成像单元而进一步提升，该单元采用12k x 12k像素CCD区域扫描相机，使用纳米级分辨率捕捉图像。一个集成的微米级自动级能够提供严密的配准精度和可重复性，因此模式可以定位在一个个位数的纳米精度在整个视野。620NT使用可扩展的模块化组件构建,用户可以在需要时轻松升级或修改设备。创新的体系结构和专用的数据通信线路提供极快的成像速度,扫描速度高达每秒1000万像素。为了跟上设备制造的快速变化,可以使用可升级的硬件平台进一步改进成像机。EVG/EV GROUP 620NT对于那些参与创建和复制高级半导体特性这一艰巨任务的人来说是一个强大而可靠的工具。它结合了尖端光学、高精度成像、坚岩平台和可升级硬件,确保了高效的工作体验和设备的统一、无缺陷的性能。