EVG/EV GROUP 6200 Mask Aligner是一款功能强大的自动化设备，设计用于半导体制造、微电子和光子学行业的光刻和检查应用。这种精密设计的设备能够在从晶圆到半导体芯片和平板显示器的基板上生成均匀、高分辨率的图像。EVG 6200 Mask Aligner具有5 um （0.2 mils）的XY分辨率,覆盖精度高,位置重复性好。这种容量允许制造高度复杂的电路和集成电路。配备高效、低漂移操作性，EV GROUP 6200可加工最大尺寸为200 mm x 200 mm（8 "x 8"）的基板。6200 Mask Aligner除了性能可靠外,还为用户提供了完整的功能范围。内置晶圆处理系统允许全自动晶圆加载、卸载和对准。该单元还包括一个基于LED的摄像机，允许清晰和精确的面罩显微照片。可以使用高速网络连接存储和传输每个掩码对齐器的数据,从而提高生产效率。EVG/EV GROUP 6200 Mask Aligner可配备多种附加应用和附件，包括工艺监控系统和激光曝光控制。这些系统结合使用，可以在诸如分辨率增强技术、双面光刻和高级包装等高级过程中对工艺参数进行精确控制。EVG 6200 Mask Aligner采用先进可靠的技术构建,是高性能、高通量光刻和检测应用的理想解决方桉。EV GROUP 6200适用于各种环境,是提高生产效率和产量,同时将成本降至最低的有效方法。6200 Mask Aligner具有低漂移操作和出色的覆盖精度,是广泛精确和复杂应用的完美工具。