EVG/EV GROUP 40蒙版对齐器是一种高精度、高效率的显微光刻工具，能够将图样对准并暴露在各种基板上。掩模对准器的精度来源于其0.6 μ m的先进垂直分辨率,以及高达10 µm的可重复性,以实现投影图像的最佳放置。这种精确度可确保图样以较长期的方式精确地暴露在基板上,从而为以后的光刻工艺步骤准备基板。EVG 40掩模对齐器的高级阶段设计在任何对齐过程之前都能确保极高的准确性和可重复性。该级能够移动行程达到600毫米,可重复性为0.05 μ m,定位精度为0.3 μ m。这样可以确保基板为面朝下的对准做好适当的准备，并且可以反复准确地暴露出来。这个阶段的设计还允许高精度的模式移动，同时将相同的模式暴露在多个基板上。为了便于高效的生产处理，|EV GROUP 40蒙版对齐器配备了高效的蒙版装载机。易于使用的加载程序可存储多达40个掩码,并以有序的方式索引这些掩码,从而确保整个过程的生产一致性。这种快速、精确的掩模加载过程进一步提高了生产时间，并最大限度地降低了出错风险。EVG/EV GROUP 40蒙版对齐器还可以凭借其高效的投影显示系统方便大批量生产运行。该系统具有0.6 μ m的曝光分辨率和高达1056 x 2032点的高分辨率投影显示屏,可同时在各种基板上生成各种光刻结构。这样可以确保更快、更精确的生产处理。EVG 40掩模对准器还设计用于观察和监控生产过程的每个步骤。它装有一个内部安装的CCD摄像机和一个记录和处理实时成像的自动增益检测系统，从而大大提高了工艺精度。EV GROUP 40蒙版对准器是一种高效的微光刻工具，用于精确的蒙版对准和将图样暴露在基板上。其先进的舞台设计确保了极高的准确性和可重复性，而其高效的特点使其适合广泛的光刻应用。其内置的监测系统进一步确保过程监测和提高生产性能。