DNK MA-4801ML/ P-4419-8掩模对齐器是一种用于光刻的精密对齐器。其先进的精度和可重复性使其成为高精度、超精细微芯片制造的理想选择。设备由一个光学台组成，配有一系列电脑控制的机动元件，使用x、y、z和倾斜轴操纵掩模和基板。这些轴由坚固的伺服和编码器控制系统运行,可确保在0.2微米范围内实现高精度对齐。该单元具有直观的控件和简单的用户界面，最大限度地减少了学习曲线，使设备易于使用。面罩对准机采用先进的步进电机，能够对准基板和面罩与纳米精度。此工具使用双激光器维护,确保准确性和一致性。掩模对齐器还配备了中央晶圆支撑资产，在对齐过程中提供无与伦比的稳定性。该模型包括一个HEPA滤波器，具有无静态结构。该设备还装有供氮装置和喷嘴，用于喷洒氮气气泡，以便在加工过程中脱氧。由于MA-4801ML/ P-4419-8的准确性和可重复性令人印象深刻，是制造微芯片的理想选择。先进的步进电机系统、动态对准传感器、中央晶圆支撑、HEPA滤波器、静态自由构造使该设备成为DEMOX和光刻应用的理想选择。因此，它在高精度微芯片的生产中被越来越多地使用。