COBILT CA 800 Mask Aligner是一种用于半导体器件制造中光刻工艺的器件。这种装置使用大功率的UV灯投射出精确的图桉，蚀刻到基材上。CA 800设备的主要部件包括对准显微镜、舞台、感光面罩、炮台式面罩支架和准分子激光器。对准显微镜用于将相机与遮罩和基板对齐，也用于识别由于遮罩旋转或未对准而可能发生的任何变形。为确保准确性,传感器系统用于补偿校准过程中的任何错误。COBILT CA 800中使用的UV灯能够产生强大的UV光，这是针对面罩精确投射精确的图桉。Castellated mask holder helping keeping the mask stable during the photolithography process, while the succimmer laser is used to clean and referent the stability of the photolithogr将遮罩安装到遮罩支架上后,舞台将基板移到遮罩上方,并使用UV光将图样蚀刻到材料上。紫外线的速度可以调整，以增加或减少每单位时间蚀刻的特徵数量。此功能允许在制造小型特征时提高生产率和精确度。CA 800系统提供高分辨率和一系列可调参数的精确对准。该系统非常适合要求最苛刻的晶圆制造应用，其自动化特性使其易于使用和经济高效。它还能快速连续加工多种基材，适合批量生产。