COBILT CA 400 Mask Aligner是为制造晶圆Mask基板而设计的先进光刻曝光设备。CA 400是一种生产精密集成电路（IC）设备精细屏蔽的快速、准确和高效的方法。对齐器的口罩制作能力为各种类型的设备制造提供了更好的生产时间控制。COBILT CA 400利用高分辨率打印头和图样编辑器的组合来创建精确的精细图样基板来制作蒙版。对齐器可以接受多种尺寸的标准晶片基板，印刷图样的位置精度由配有非常精确的quattro控制器的坐标测量系统（CMS）保证。CA 400提供卓越的曝光精度,其曝光水平确保符合IC行业设计标准和光刻标准。蒙版完成模块进一步提高了曝光精度,用户只需一次曝光即可完成多个蒙版。该模块利用自己的专用软件进行操作,从而帮助COBILT CA 400执行掩码模式识别和基板制备等任务。CA 400还配备了其他功能,例如输出监视器,允许用户在晶圆获胜之前检查操作状态。反馈有助于确保晶片正确暴露和清洁。COBILT CA 400采用了高度先进的隔膜系统，在整个掩模表面积上实现均匀的光分布。因此,可以在快速曝光时间内完成精细的模式匹配.对齐器中使用的高灵敏度热板还有助于提供一致和准确的掩模对齐方式,确保适当放置掩模进行处理。CA 400的强大功能（如自动蒙版放置和迭加模式配置）,可帮助设备达到此类产品通常不会看到的效率水平。COBILT CA 400可以快速完成口罩制作过程，减少过程中涉及的体力劳动量，同时生产符合IC设备设计者设计要求的口罩。除了CA 400的高级功能外,该设备还拥有最低的成本和最低的维护。由于成本效率高和维护要求低，小公司和初创企业更有可能对使用对齐器感兴趣。这一点,加上其先进的功能,如掩模完成和热板功能,使COBILT CA 400成为满足现代掩模制作需求的一个有吸引力的选项。