PLA 501的CANON晶圆转换套件是用来增强掩模对准器灵活性的工具。掩模对齐器是一种用于在10 nm或更小特征大小的芯片表面上创建纳米结构的机器。掩模对齐器由各种元件和机制组成，使光刻过程中使用的各种掩模能够精确对齐，在基板上蚀刻所需的图桉，通常是晶圆。当使用掩模对齐器处理大小、间距或厚度不同的晶片时,必须使用晶片转换套件。每个转换套件都是为特定类型的晶圆设计的。用于PLA 501的晶圆转换套件包括各种晶圆处理的可互换部件。套件包括安装在掩模对准器主体上的卡盘支架。卡盘支架持有不同类型的卡盘，基板是在暴露过程中铺设。夹子有各种形状和大小，以容纳不同类型的晶圆。此外,套件还包括一个4位卡盘装载器,当晶片插入掩模对准器时,该装载器用于固定晶片。晶圆转换套件还配有电动晶圆位移装置，用于在对准时精确定位基板。套件还包括隔膜密封，防止水分渗入口罩对准机内，从而确保晶片正确准确地暴露。最后，该套件包括一个晶片掩模堆栈，用于帮助将掩模对准正确的位置。使用此堆纸器对掩模进行精确对齐,从而可以将所需的图样精确蚀刻到晶片上。总体而言,PLA 501的CANON Wafer转换套件为掩模对准器用户提供了一种高效、准确的方法来处理不同尺寸、间距和厚度的晶片。套件的各种组件使掩模对齐器能够精确对齐掩模并准确地将晶片与所需的图样曝光。