CANON PLA 600F是CANON集团旗下子公司CANON Semiconductor Equipment Corporation开发的掩模对齐器。CANON PLA600F设计用于光刻生产半导体器件中使用的光掩模或光刻工艺的快速、精确对准。通过使用高性能激光定位设备和内置参考镜头，可以精确对准掩模图像的高分辨率。能够将多层对齐到高精度,可确保将图像正确定位在掩模或晶片上。这有助于创建缺陷最小的高质量设备。遮罩对齐器还具有光圈板，可以容纳各种遮罩尺寸和形状。这样可确保在改变成像区域的位置时,蒙版的最佳对齐方式。镜头光圈板是可调的，可以调整到不同的深度设置。PLA-600F拥有复杂的图像分析系统，能够识别最小的缺陷并准确测量层厚度。通过设备的集成测量软件，对掩模或晶片对准的精度进行监控和调整，确保了高度的均匀性。软件还能够监控口罩的定位，允许在必要时进行调整。掩码对齐器与多种CANON技术兼容，例如其掩码设计和分析软件。这允许用户创建自定义掩码并优化图像分析过程。机器还设有自动自检点，监控温度和电源等主要操作参数。这有助于减少与无法正常工作的部件相关的代价高昂的错误。该软件还记录设备上的信息以及图像对齐条件,从而便于查看信息并帮助确保准确性。在安全性方面，掩模对准器是用内置的安全工具预先编程的。这限制了基于用户操作环境的最大激光功率，确保了操作员的安全。