CANON PLA 521FA是一种用于半导体器件精密制造的掩模对齐器。它是一种自动化、可编程和可配置的设备，能够为单面和双面工艺生产优质的晶片。CANON PLA 521 FA具有全场紫外线（UV）照明和先进的光掩模/基板对准系统。它允许使用两个照相机和两个基板两侧的对准标记进行高度精确的基板聚焦和对准。此外，它还配备了先进的基板支撑，旨在减少基板上的热应力并提高工艺产量。此外,它还可以使亚微米精度与200 x 200 mm2的最大视场（FOV）对齐。解放军521FA提供两种型号，即Standard和Super。Standard型号以13.5 kW紫外线水银灯、数模转换器（DAC）快门、最大基板面积800x800mm2为特色。另一方面，Super车型搭载30 kW UV氙灯、模数转换器（ADC）快门，最大基板面积3200x3200mm2。借助易于使用的图形用户界面（GUI）, PLA 521 FA还提高了性能,提高了对齐速度,提高了生产产量。它配备了先进的内置软件和硬件功能,可实现高速、实时对准,以及使用对准和成像系统进行高精度监控。佳能PLA 521FA除了其领先的精确度外,还特别坚固耐用。设计为耐腐蚀、保持最佳性能、最大限度地延长设备使用寿命。它还具有高能效，因为与早期型号相比，它可以将用电量降低40%。而且，它具有抗振动的特点，被设计成容纳在防尘、防光、防歌剧的环境中，以确保最佳性能。总体而言，CANON PLA 521 FA是一款出色的掩模对准器，非常适合高精度半导体制造。其先进的功能、强大的构建和可靠的性能使其成为需要精确度和准确性的用户的理想选择。