CANON PLA 501 FA是一种最先进的掩模对齐器,它为用户提供了光刻处理的高精度和精确度。适用于教育和工业应用。CANON PLA-501FA设计用于提供非常高分辨率的掩模传输和晶圆定位,对准精度小于3 μ m（或0.12毫米）。它采用对准设备，将4轴行进级与光学传感器相结合，让用户高信度地轻松准确地配准口罩。此外,系统可以同时容纳SMIF和ProSTEP格式以及CanLiv 5.5和更大的光掩码。该单元还提供了其他几个好处，如其快速晶片加载能力，以及具有33.4 msec曝光时间、3600 X 3600 dpi分辨率和1.2 μ m（或0.049 mils）打印精度的曝光机。在内置安全功能方面，解放军501FA包括紧急停止开关和灯帘，以及ESD保护和自动维护工具。此外,还根据ISO 9001、EN-9002和JIS标准批准了该资产的安全性。CANON PLA-501 FA利用直驱直线电动机，确保舞台始终保持稳定运动，消除机械反冲。此外,它还具有内置的湿度和温度传感器,可以根据用户的特定条件和要求进行设置。最后，该型号还配备了防波纹功能，降低了环境噪声，提高了打印精度和稳定性。总体而言,对于正在寻找可靠、准确和用户友好的光刻模型的工业和教育用户而言,CANON PLA 501FA是一个极好的选择。其各种安全特性和精确对准设备使其成为广泛应用的理想选择。