CANON PLA 500F是一种用于制造半导体的掩模对齐器。它旨在有效地对齐半导体基板上的掩模图样，并将图样精确地传递到基板上。PLA 500F是一种利用真空扫描电子显微镜（VSEM）精确检测硅基板的高精度器件。它还采用高速扫描镜头和全视野光学系统进行精确对准性能。CANON PLA 500 F的掩模架XY精度为2微米，XY分辨率为0.2微米。它还具有先进的特性，如双图桉对齐、真迭加和低鳍间距对齐，用于精确的掩蔽过程。VSEM的分辨率为50纳米，尺寸范围为200-500微米。使用的驱动马达可以达到80微步长/秒的最高速度。PLA 500F带有集成控制系统,包括基于Windows的GUI、简单的PC通信接口和直观的控制软件。CANON PLA 500F还配备了运行范围为0.3至1000 G的高速电磁体。PLA 500F利用专有算法和技术提供精确对准,而不会影响速度或精度。这使得它非常适合精确对齐通孔、CMP通孔和小局部层。CANON PLA 500F还支持多种软件，包括光刻软件和成像库。此外，解放军500F还配备了先进的真空室，该真空室装满了低压，并获得了危险材料认证。它还配备了先进的冷却系统，确保温度保持恒定进行精确对准。CANON PLA 500F是一种可靠、精确的口罩对准工具，对于制造精确的半导体产品至关重要。它是满足新技术和传统制造需求的绝佳选择。