CANON PLA 500系列掩模对齐器为精密光刻应用（如超规模集成（ULSI）和高级封装过程）提供了一种高度可靠、经济高效的掩模对齐器。PLA 500系列适用于有机薄膜晶体管（OTFT）和3D集成等一系列制造工艺，能够处理包括聚合物、硅、玻璃在内的一系列基材。CANON PLA 500系列面罩对齐器采用封闭式框架设计,可同时容纳标准和定制基板尺寸。它能够在小于一微米的光斑大小下提供卓越的对准精度。该机还配备了执行预对准的对准传感器系统，以及两个轴上的精细对准，以实现对准精度。PLA 500系列还包括一个专用的图像对准单元,能够解析每个掩模和基板上的精确坐标。用户友好的液晶触摸面板提供了详细的参数设置和方便的用户界面。CANON PLA 500系列掩模对齐器为步进改进操作、原始层补偿（OLC）、层移操纵（LSM）等高精度光刻过程提供了必要的控制环境。此外，PLA 500系列还包括一个先进的内置甲烷外壳功能，允许更快的处理时间和精确对齐层。CANON PLA 500系列的曝光部分可以配置为在一百四十毫米厚的基板上接受各种类型的口罩如正片和负片。PLA 500系列配备了快速曝光工艺，如集成节能APC（ESAPC）和自动平板曝光修剪（APT），以提高吞吐量。此外，机器还可以接受特定于各种基板的夹具和定制支架，包括扁平芯片、堆迭和层压基板。它具有集成的心理VAE腔室和高速数据端口，可直接读取零件。用户友好的软件界面允许用户根据需要调整曝光时间和对齐速率。佳能PLA 500系列口罩对准器也有先进的安全功能。这包括防止在未经授权的维护过程中暴露的互锁系统，以及确保安全地面的输入隔离系统。其他安全功能还包括紧急停止按钮和内置的光学和静电屏蔽。总体而言，PLA 500系列是生产光刻工艺的经济高效、可靠、高度精确的解决方桉，提供卓越的对准精度、高速曝光工艺以及各种安全特性。