CANON MPA-600/500 Exposure Equipment是一种高功率、可靠的曝光系统,专为各种光刻工艺而设计。该单元由先进的多曝光头、曝光控制器、高精度机械级和真空台组成。曝光头配备了两个灯百叶窗，精确控制的可调挡板，以及确保一次只曝光一次的快门互锁机。曝光控制器是工具中最重要的组件。它吸收用户命令并控制曝光过程。它可以调整位置、曝光时间、能量水平和多重曝光重迭。它还检测超出限制的条件并允许特殊的操作功能。曝光控制器具有自动安全设备,当某些预定义的标准不符合时,这些设备将停止曝光。精密力学阶段旨在提供晶圆的精确定位，并确保其在曝光过程中牢固地固定到位。舞台使用线性和旋转编码器精确测量和控制其位置。也可以将其编程为允许多个曝光轴偏移。真空台位于曝光控制器的顶部，负责在曝光过程中牢固定位并牢牢抓住晶片。它还能够在整个晶片表面施加均匀的曝光。该表是温度控制和真空密封，确保空气和水分不干扰暴露过程。MPA-600/500曝光资产是需要精确曝光大尺寸晶圆的光刻工艺的完美解决方桉。其先进组件的组合确保了符合当前行业标准的准确曝光。该模型经过了全球领先的半导体制造商的彻底测试和信任。