BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY Micralign 542HT是为集成电路、传感器和其他微电子元件的接触和接近光刻而设计的掩模对齐器。它是一种自动显微光刻设备，允许用户精确对齐并将光掩模暴露在硅基板上。该系统由机架、掩模对准头和真空卡盘组成。机架由坚固的合金构成，为单元部件提供刚性支撑。它包含一个气动驱动的倾斜臂，用于调整掩模对准头的位置，将掩模旋转到位，并提供精确、可重复的定位。还配备了可调节的脚部，保证车架水平稳定。遮罩对准头的设计是用来容纳一个光遮罩，以便暴露在基板上。它由电动X-Y级驱动,该级沿x和y轴移动头部,精度高达200 nm,速度高达20mm/sec。掩模对准头装有一个压力敏感的红外（IR）网框，精确定位光掩模。头部还包含一个双焦点机器，允许用户调整光轴的焦距。真空卡盘负责底物的拾取、对准和释放。它由单轴旋转级和真空卡盘控制模块组成。旋转级由步进电动机驱动，允许对基板进行精确和可重复的定位。真空卡盘控制模块设计用于在真空和大气压模式之间切换，提供安全的附着或释放基板。该工具配备了几个安全传感器和一个紧急关闭开关。安全传感器包括Current Overload Protection （COP）来指示步进电机何时超载，+/-2mm高压传感器来指示掩模架何时离开起始位置，以及检测真空水平波动的真空传感器。紧急关闭开关连接到机架和马达，在紧急情况下可用于关闭机器。BSL Micralign 542HT是一种先进的掩码对齐器,旨在提高显微光刻过程中的吞吐量、质量和稳定性。它结合了可靠的框架结构、精确的对准和自动控制，使其成为最复杂集成电路接触和接近光刻的理想工具。