BROOKS AUTOMATION PRE-300-CE是半导体制造过程中使用的掩码对齐器。该对齐器用于生产集成电路芯片的光刻。它是BROOKS AUTOMATION 300-SF模型的后继产品,是一种完全自动化的预对齐设备,旨在实现精确的模式传输,并获得可重复、一致的结果。掩模对准器由两个主要元件组成，一个多轴步进系统（MASS）和一个光学单元。MASS是一个六轴机器人，它将掩模精确定位在微米范围内。光学机由遮罩照明器、光冷凝器、光学透镜和晶圆级移动组成。光学器件的设计目的是提供最佳的曝光均匀性，使工具能够达到高度的临界尺寸精度。PRE-300-CE场大小为6-7厘米,分辨率为0.5-5微米,具体取决于所使用的校正光学器件。该资产采用0.5/1.0 NA照明器,可实现曝光均匀性、低能带光学曝光以及改进的加工纬度。该遮罩照明器针对365nm进行了优化，并具有内置的曝光调制，以改善曝光控制时间。它使用一个I-line灯进行曝光，并配有一个双极电压调制器，以优化整个曝光场的曝光剂量控制。对齐器具有自动批处理功能，内置150个掩码的内存容量，可以单独编程和存储。该模型支持正向和负向曝光以及模对模和模对图像配准。它具有自动校准和光束监控的能力，提供快速和准确的面罩模式对准晶片。BROOKS AUTOMATION PRE-300-CE通过易于使用的图形用户界面为高效操作和易用性而设计。设备配备了一套完整的工具，可集成到大批量、高吞吐量的生产环境中。它与多种基板兼容，包括Si、GaAs、InP和SOI，使得它非常适合广泛的半导体应用。