ARTEC Eva Lite是一种晶圆步进器，为光掩模和纳米加工市场提供精确的对齐方式。它旨在为光刻、数字光刻和高级蒙版中的光掩模对准和纳米印刷品光刻要求提供经济高效且可靠的解决方桉。Eva Lite具有高度可配置性,并为经济高效的光掩码对齐提供了最佳解决方桉。ARTEC Eva Lite中的"Eva"代表"Electronic Visual Alignment",它基于先进、用户友好的软件平台。该平台为用户提供了快速轻松的模式配准和掩模对准，使得Eva Lite适合要求苛刻的纳米制造和光掩模应用。ARTEC Eva Lite具有刚性prober结构,具有高精度和可重复性。它还带有一个高精度的光学窗口，它提供了一个精确的观察对准过程上的prober。Eva Lite高度可配置,可为用户提供多种不同的对齐方式和光学掩码。它还提供了一个可配置的曝光系统,允许用户根据工作要求选择适当的曝光设置。ARTEC Eva Lite提供高达4.2英寸晶圆尺寸的步进能力。其最大跨步精度为3.0 μ m，使用户能够实现其图桉和口罩的高精度对齐。Eva Lite具有高速自动校准功能,可自动校正和调整蒙版对准和曝光设置。它有一个四轴系统来提供高分辨率的掩模对准，并且包含EFEM轨迹以实现最大的步长和时间优化。ARTEC Eva Lite还有一套板载信号发生器，用于高带宽模式配准，进一步提高了掩码对准过程的准确性。为了确保可重复的准确性，Eva Lite拥有一个集成的嵌入式内存系统，允许用户存储他们以前的结果设置，并在不同运行之间比较结果。它还配备了一个全面的过程控制界面，允许用户轻松管理工作流并确保可重复的结果。此外,ARTEC Eva Lite经SEMI®认证,旨在满足严格的行业标准。总体而言，Eva Lite是一种高度可靠和经济高效的晶圆步进器，旨在为光掩模和纳米制造市场提供精确的对齐方式。其多种特性和可配置性使其成为生产和研究应用的理想解决方桉。