ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M是一种用于先进半导体制造工艺的高性能、最先进的掩模对准器。它能够精确接触对准感光材料和基板，如晶圆，具有卓越的精度和可重复性。该掩模对准器具有350 nm波长、纳米分辨率的光束源和动态电荷控制驱动器（DCCD）设备，以提高稳定性。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M能够非常精确的对准和模式对准，以实现大容量的光掩模生产。这是通过编程的对齐软件和电动级对晶片的控制操作来实现的。这些电动机由高精度的运动控制单元驱动，具有精确定位晶片的能力。该单元还包括一个6英寸（6英寸）多层光学系统,可实现卓越的成像和对准精度。350 nm的近紫外线光束进一步增强了这一点，这种光束已被证明能显着降低设备表面的过程诱导应力。这反过来又降低了底物缺陷的发生率，提高了产量。此外，对齐器还包含一个动态电荷控制驱动器（DCCD）单元，进一步提高了精度、重复性和准确性。DCCD机器的工作原理是减少位置调整时间,因为它可以抵消对齐过程中外部干扰引起的基于电荷的激发。ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M可用于复杂和高精度的制造应用。它适用于具有挑战性的半导体工作环境，例如那些涉及亚微米特征大小和先进的MEMS和NEMS工艺的环境。总体而言，ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M由于具有高度精确和可重复的对准和成像能力，是高级半导体光掩模生产的绝佳选择。其强大的设计和提高的精度进一步提高了产量和成本降低，同时维护了最高的精度水平。