ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是为精密微电子制造而设计的最先进的高性能口罩对准器。它提供了业界领先的光掩模对准精度和稳定性,从而降低了半导体制造过程中的故障率。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M对齐器非常适合半导体晶片的生产,因为它具有高吞吐量、低拥有成本以及可容纳多达25 "x 25"基板的大型工作包络。在其核心，ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是一个直接接触式面膜对准器配备了一个投影镜头和五个微定位器。该设备的设计目的是确保在曝光过程之前将图样化的光掩模和基板精确对齐。这是通过与集成准直透镜的并行对准方法实现的，它提供了从光掩模到基板上的精细图桉的完美重复。高分辨率微定位器用于x、y和z轴聚焦，允许在所有三个轴上都具有亚微米精度。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M还配备了先进的DCCD（直接接触阴极放电）扫描仪,以提高吞吐量和准确性。这结合了无粒子投影环境和高精度的光学系统，允许最佳的掩模到基板的配准。它还带有一个强大的呼吸单元，监测投影透镜的散光和昏迷像差，确保可重复的结果。ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M凭借其专有的Bright Source Variable （BSV）蒙版投影机提供了卓越的照明均匀性。此工具使用多个可单独调整的LED,允许用户修改照明强度和均匀性,以完全符合其应用要求。总之，ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M是一种行业领先的掩模对准器，为各类半导体和光子应用，包括激光划线和单脉冲曝光提供了卓越的准确性和可重复性。它为实现最高收益和最低拥有成本提供了一个可靠的平台。