AMAT/APPLICED MATERIALS 8310是半导体工业中常用的蚀刻器和asher。它是离子注入和沉积过程的理想溶液。作为多功能蚀刻器，可用于沉积、蚀刻、洗涤、清洁多种半导体薄膜。AMAT 8310提供卓越的一致性、可重复性和过程控制,是小型晶圆和小容量应用的理想选择。APPLIED MATERIALS 8310设计为能够与各种能源一起运作，同时支援射频和N2蚀刻能力。它配备了一系列的特点，包括几个加工模块的高级轴向级，一个大腔室，以及一个与雾化器配合沉积的载荷锁腔室。PM2工艺模块配备了优化的离子磨和阳极离心机，用于工艺微调。8310提供高速高精度asher能力,以及高容量过程能力。它与用户友好界面和内置的EGA自动远程接口（ERI）系统集成在一起，方便操作。它的两件式系统允许使用RF和N2蚀刻工艺,非常适合低产量和高产量。AMAT/APPLIED MATERIALS 8310还配有热气系统和微调器,可在低热应力下提供高产率的最佳沉积工艺。它有一个非接触涡流传感器，允许在广泛的温度范围内精确的沉积测量。AMAT 8310旨在提供可靠的性能,并有24个月的保修支持,使其成为工业和研究应用的绝佳选择。APPLICED MATERIALS 8310具有强大的设计和较高的工艺控制能力,为用户提供了对参数的卓越控制,这些参数可用于处理最高质量的结果。