TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for Tactras Vigus是一款针对先进半导体器件的超细制造工艺而设计的蚀刻器/asher。它为高密度、复杂的电路模式提供了非常规的蚀刻技术。它是一种先进的设备，通过提供高效可靠的蚀刻工艺满足现代制造业的需求。TEL Chamber for Tactras Vigus具有高精度的基于原位卡带的蚀刻。它提供了安全的密封和高温的可靠性.真空室配备了优越的气体溷合系统和高性能真空系统。这种蚀刻器/asure设计用于在减小基板表面厚度和最小污染的情况下进行高效蚀刻。它还具有低压高蚀刻速率，以满足柔性蚀刻的需要。TOKYO ELECTRON Chamber for Tactras Vigus是为了成本效益而设计的。它需要最少的维护,并且可以针对不同的流程轻松升级。其先进的控制系统和精确的温度管理使蚀刻过程足够快。Tactras Vigus的腔室还具有快速转换和高精度阀门控制的平稳加载过程。它具有多种超低流量的排气系统，以便在操作过程中将残留气体降到最低。TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for Tactras Vigus是用先进的软件和测量系统建造的。它的用户界面提供了蚀刻过程的清晰指示以及直观的图形。它还具有一系列可用于确保蚀刻过程的过程模拟模型,例如匹配参考曲面,从而提供了精确设置蚀刻过程的能力。TEL Chamber for Tactras Vigus是一个极好的蚀刻解决方桉,对于需要最高精度和成本效率的用户来说,对于各种应用程序的晶圆蚀刻来说都是如此。它提供卓越的蚀刻过程控制、精度、安全性和可靠性。该室旨在满足当今半导体制造商不断变化的市场需求，对于要求在蚀刻操作方面绝对最高可靠性和灵活性的制造商来说，是一个理想的选择。