VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON FBR II/ HPS-T001/HT II是半导体制造设备领先供应商TEL开发制造的离子植入器和显示器。该装置旨在提高半导体器件生产的速度和精度。FBR II是利用法拉第笼式技术的高效可靠的离子植入器和监控设备。它具有增加离子电流精度的垂直法拉第笼和独特的螺旋感应透镜，该透镜以均匀的方式分散离子，最大程度地提高了应用室内的均匀性。FBR II的高精度、可靠性和速度为半导体器件生产提供了快速、精确的工艺。除了离子植入外，FBR II还具有内置的监控系统。这个监控单元在工具内使用了多种传感器和信号，使其能够测量温度、污染和基板特性等各种参数。监控机可用于提高整体工艺精度和预测潜在故障。FBR II还具有广泛的附件和组件,允许进行各种半导体器件制造应用。它可用于多种工艺，如植入、光敏带、退火、真空沉积和晶片测试。FBR II还包括一系列其他组件，如基板传递机构、直列基板加热器和可编程漂移螺钉。总体而言，TEL FBR II/ HPS-T001/HTII是一种高效可靠的离子植入器和监控工具，可用于提高半导体器件生产的速度和精度。它具有先进的法拉第笼子和独特的螺旋感应透镜,可提供精确度和可靠性,内置监控资产,可帮助进行过程控制和维护,以及一系列有用的附件。所有这些功能都有助于FBR II在一系列半导体器件制造应用中的可靠性和有效性。