GENUS G1510&G1520 Ion Implanter&Monitor是一种最先进的带电粒子加速器，用于将离子植入多种材料中。这种高度模块化、计算机控制的系统既包括离子源，也包括光束监控摄像头，允许精确控制和精确的离子植入过程。离子源是一种产生各种种类离子的双质质子源，其中包括氙气、氧气、磷和硅。该源可实现广泛的离子能量和光束电流强度，使得G1510&G1520适合各种类型的离子植入，如适应能量的植入或能量扩散植入，允许应用如RF MEMS或雷达敏感的MEMS。光束监控摄像头可用于检测和监控离子束，使操作员能够确认所需的设置，实时监控植入过程。相机还可以提供各种光束参数的反馈，如光束光斑尺寸、光束传输和光束错位。这反过来又可以改进操作员对植入过程的控制，帮助确保达到所需的离子剂量。G1510和G1520系统高度自动化,内置操作员界面可轻松访问所有设备参数和机器功能。用户界面还提供警报和监视功能,允许远程监视和调整系统。此外,内置校准模块可实现每个源的自动校准,确保每次运行都能准确植入离子。G1510和G1520有开放式和封闭式两种框架设计，可用于传统实验室和OEM应用。此外，这些系统的设计符合各种安全和操作标准，如CE和SEMI 2336。总体而言，VARIAN G1510&G1520离子植入器和监控器是高性能、高度通用的系统，能够精确地以各种能量注入各种离子。摄像头和校准模块等自动化功能的加入进一步提高了其用途，改善了操作员的控制和安全性。其多样化的应用和广泛的特点使G1510和G1520成为一种高效、可靠和经济高效的植入应用解决方桉。