VARIAN E1000HP是一种离子植入器和显示器，旨在为半导体行业提供准确可靠的离子植入服务。VARIAN E1000 HP是一个高度精确、全自动的系统,可以处理多种基板,包括Si和SiGe。其设计允许在植入过程中对离子剂量、束角和离子能量进行高度精确的控制。E-1000 HP配备了一个离子源，它可以产生各种能量的离子束。它还具有能够承受高压率的真空室，使其适合多种植入技术。腔室包括一个封闭的目标区域，该区域受到保护，以免暴露于光束中，从而有可能损坏目标表面。该系统还具有先进的离子束监视器，能够测量光束的位置、大小、电流，以及能够优化植入过程的光束参数阵列。它还包括一个顶部安装的定位器，允许用户准确地将基板放置在目标区域。此外，E1000HP包含一个可靠的射频发生器，能够产生低频和高频功率的离子加速。它还有一个先进的聚焦透镜，能够保持恒定的离子束大小。此外，该装置还配备了高功率射频源和专用显示器，用户可以控制光束能量并监控离子剂量。最后,E1000 HP旨在提供可靠的性能和一致性。它具有先进的安全功能，有助于防止辐射暴露并确保植入过程中操作员的安全。该系统还易于设置和使用,非常适合各种应用程序。