EATON NOVA/AXCELIS NV 6200A是为高精度离子植入而设计的先进离子植入器和监控设备。包含的离子源能够产生广泛的剂量和能量，使其成为硅基板和其他材料的精确掺杂的理想选择。系统的软件和硬件为用户提供了对离子植入过程的精确控制，既允许高精度又允许重复性。该设备具有多种功能,包括用户友好的界面,用户可以轻松设置和监控其流程。它还允许用户调整植入物的参数，如光束形状、光束大小和剂量。此外,该单元还包括用于监视过程的功能,如束电流监视器、累积剂量监视器和过程状态监视器。AXCELIS NV 6200A具有一个低真空沉积室，非常适合受控植入，并提供出色的光学接入。该机还可以配置一系列硅预涂层选项，包括氧化物涂层、有机金属涂层和光阻涂层。这使得多种硅基板可以用于离子植入。对于流程苛刻的用户，该工具还包括一系列高级功能，如全自动脉冲植入物和多个植入物组合。这些功能为用户提供了对其流程更好的控制和准确性。为了确保资产始终以最佳效率运行,它包括了一些附加功能,以最大程度地减少污染并提高流程性能。这些特点包括洁净室兼容制造、自动晶圆处理模型和一系列集成传感器来监控腔室大气。传感器不断监视和提醒用户注意过程中的任何变化，确保设备尽可能高效地运行。EATON NOVA NV-6200A是一个强大而精确的离子植入器和监控系统，为用户提供他们所需要的准确性和控制。该装置的精确度和可靠性使其成为各种植入应用产生高质量、可重复结果的理想选择。此外,它还包括高级功能和传感器,可确保轻松设置、监控和准确操作。