VARIAN 160XP是一种高端离子植入器和监控设备，旨在为制造商提供可靠和坚固的将离子植入基板的手段。它是一个全自动、计算机控制的系统，能够达到10 kHz的植入率和1%的光束电流测量精度。这使其成为半导体制造所需的高精度和重复性的理想选择。该单元采用轻量级设计,可提供节省空间的解决方桉,同时还具有符合人体工程学的工作站,以实现最高的效率和舒适性。机器的核心部件包括预放大器，负责精确控制植入电流的大小和方向；用于监测光束植入能量的高精度光束能量监测器；一个专用的离子过滤器，负责从工具中去除任何不必要的离子。整个资产旨在最大限度地减少辐射泄漏的风险，并确保那些使用辐射泄漏的人有一个安全的工作环境。该模型还提供了多种精密工程选项，如指定倾斜角度的能力、多步植入过程和计算机控制的剂量调整。该设备还能够在不同类型的离子之间切换，对多种材料进行植入，从而在生产过程中实现更多的控制和灵活性。此外,系统的自动化程度很高,易于使用,减少了手动输入的需求。为了增加安全性,VARIAN 160 XP配备了先进的安全协议,确保不会从设备释放不必要的辐射,并将污染保持在最低限度。此外，机器还附带了一系列全面的诊断和在线支持，允许用户监控工具并在需要时获得支持。总体而言，160XP是一种高端离子植入器和监控资产，它为制造商提供了一种可靠而坚固的将离子植入基板的工艺。该模型提供了一系列精密工程选项,并具有高水平的自动化设计,使其易于使用,并减少了手动输入的需求。它还有一个先进的安全协议，帮助确保安全的工作环境，降低辐射泄漏的风险。