VARIAN Disk for 160XP是一种创新的离子植入器和显示器。它专为要求苛刻的半导体离子植入过程而设计，具有超高精度、高通量的操作能力。设备先进的2D半导体处理器和集成的3D X射线成像系统使其能够在实时监控植入过程的同时，执行最精细的离子植入过程。该160XP采用E-Beam发电机，能够提供高达1.5kW的功率，可以同时植入比竞争技术更高的电流和电压。该装置的先进光刻软件在植入过程中始终保持所需剂量的电子和离子，精确度和精确度都非常高。VARIAN独特的陶瓷感应聚焦技术以极高的精度引导离子，实现了对植入过程的更大控制，提高了过程的重复性。增强型聚焦机进一步优化了型材和剂量等光束参数，单批提供了改进的植入性能。先进的X射线成像系统允许植入样品的完整3 D视图。该工具能够同时实时监测植入过程，同时跟踪其剂量测量，从而实现可复制的最佳植入参数。先进的成像资产还提供了植入物种的自动化检测，允许过程同时优化。该160XP可与实验室数据系统和主机处理单元集成,以实现额外的灵活性,从而能够控制和监控远程位置的植入物操作。该模型旨在提供超高精度和高通量的离子植入，使其成为半导体制造的理想选择。