VARIAN 120XP是由VARIAN Semiconductor Equipment Associates, Inc.开发的离子植入器和显示器。设备由离子植入器和显示器两个部件组成。离子植入器利用高能的离子束将材料的区域密集地植入目标基质中。它以光栅扫描模式工作，允许高度精确控制植入区域。该监视器旨在测量、记录和分析植入过程中的数据，以确保获得最佳结果。VARIAN 120 XP设计用于半导体行业的动态关键器件应用。它提供了多种特性，使其特别适用于离子植入，包括一个大的工作区域，一个强大的光束控制电极，以及一个高性能蚀刻室。此外，该系统与多种植入源材料兼容，包括硼、磷、砷和喹。其优化的光束扩散还可以使植入物准确地放置在大型基质上。120XP设有一个先进的监控单元，以帮助确保植入准确准确地进行。它配有两个独立的控制面板，一个用于显示器，一个用于植入器，用于测量植入过程中光束的参数。这包括植入过程中的束电流、能量流度、入射角和能量范围等。此外，植入器和监视器被设计为在观察到任何不规则性时自动暂停，从而在必要时能够快速、轻松地进行校正。120 XP还利用了高级安全程序。机器设计得尽可能安全，所有维护工具所需的人员都比许多其他离子植入器离光束更远。此外，该室本身是用高辐射屏蔽材料建造的，以保护工作人员免受任何危险辐射排放。总体而言，VARIAN 120XP是一种先进且功能强大的离子注入资产，设计用于生产半导体器件。它具有多种特点，特别适用于高精度装置植入物，包括高功率光束控制电极、大工作区和先进的监控模型。此外，其结构安全高效，是优质生产的理想选择。