EATON NOVA/AXCELIS NV GSD A 160是一款最先进的离子植入器和显示器，旨在满足半导体制造工艺的最先进的要求。它是业界最全面的植入器设备，与其他系统相比提供了众多优势。该系统提供高速的16位模拟离子电流测量，可产生高分辨率的图像，并允许精确的离子植入和优化的植入周长（OIP）。AXCELIS NV-GSD-A-160配备了一个可调高压平台和一个1.87米长的矩形基板支架，带有2个可伸缩的光束轴，允许精确的双轴植入。EATON NOVA NV GSD-A-160还提供了一整套诊断工具和测量仪器来评估工艺性能。NV GSD A 160具有高分辨率成像单元、高压平台和双轴植入机三大特点。该成像工具由100微米分辨率CCD芯片和先进的转角转向光学器件组成，可提供最详细的离子植入预览。它还提供了一种OIP功能，可用于精确控制剂量和能量分布。高压平台能够操作高达50千伏，在使用较大的离子束时提供了良好的控制程度。两轴注入资产允许一次注入四个离子轴，每组四个轴包括x、y、z和theta轴。它还带有全运动控制和过程监控，提供对植入过程的全面控制。最后,NV-GSD-A-160还提供了广泛的诊断和监视选项。它配备了一个监护模型来监控硬件和软件性能的各个方面，以及一个离子植入物诊断（IID）工具，可以用来确定离子束的配置和能级。该设备还提供了一套全面的测量仪器和工具来分析植入过程。总体而言，AXCELIS NV GSD A 160是进行先进半导体制造工艺的理想工具。拥有高分辨率成像系统、可调高压平台、双轴植入单元和综合诊断工具集，提供了复杂植入所需的所有功能。通过提供全面的控制方法,EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-160可以帮助您的制造业务获得显着优势。