VARIAN/GENUS 1520离子植入器和监控器是将离子植入半导体材料的先进系统。它能够精确控制离子的输送，使不同的植入物能量、种类、批量大小和剂量率得以使用。GENUS 1520还具有完全自动化选项，允许多个植入物以最小的操作员参与进行。该系统提供极精确的剂量控制，允许高度可重复的植入剂量。这使用户能够生产具有一致结果的植入物，从而降低了对硅基板造成昂贵颗粒损伤的风险。VARIAN 1520配备了最新的监控和处理软件，使其成为高级离子植入的综合工具。1520利用了基于射频的高功率、高电压的GENUS Rexolite和SHI Thalium靶标。这允许高电流传递和高基材掺杂率与最小化热损伤。离子源组件向目标提供离子，由一对提取电极、一个源和一个扫描线圈组成。扫描线圈用于植入物的剖面分析，可进行优化以实现高度定位的植入物剖面。VARIAN/GENUS 1520还具有一系列离子选择（隔离）选项，如质量分析、电荷剥离和多种植入物。质量分析选项允许选择要植入的特定离子种类，而电荷剥离选项可用于减少受污染的底物掺杂。多物种植入选项允许在植入两个或更多物种时提高准确性和可重复性。GENUS 1520是创建复杂、高质量微电子器件的强大系统。它具有广泛的自动化和植入控制能力，是生产优质晶片的宝贵工具。对于希望生产基质损伤最小化的高重复植入物的用户来说，这是理想的选择。