EATON NOVA/AXCELIS HE3是由Eaton AXCELIS Technologies设计制造的先进离子植入器和监控系统。该装置是一种高能重离子植入器，能够生产精密、高质量的材料植入半导体晶片。该机器配备了先进的原位工艺监控系统，以确保所有半导体晶片的一致、可靠的植入。EDNAXCELIS HE3背后的技术是基于以60 MeV电子源为能源、高能离子束加速到1-20*107 eV能量范围的束线加速器。这种能级使得植入过程能够根据各种晶圆生产标准的具体要求量身定制。该装置配备了一系列优化植入过程的特性，从光束方向和分布的精确对准，到控制粒子的能量和质量。它还提供了一系列额外的功能，旨在确保晶片的稳定和可靠的植入。这包括自动关闭和安全警报等安全措施，允许操作员在需要时监控和调整植入过程。此外,该设备还包括温度监视器等选项,以确保晶圆温度保持在最佳工艺范围内。此外，该装置还包括一系列传感器和监测器，可精确确定离子注入量和能级，以帮助防止表面损伤要求的偏差。EATON NOVA HE3还包括一系列反馈回路，允许制造商在必要时实时调整参数。这可以精确地植入材料，同时考虑到由于晶片内的工艺变化或变化而需要进行的任何调整。最后,该机器还具有一系列诊断功能,如电流监测、过程信号分析、电压和样品诊断,有助于确保植入晶片的质量。总体而言，HE3是一个先进而可靠的系统，专门为高质量、精确的离子植入而设计。该装置经过精心设计，以满足半导体制造商和生产商的需求，使他们能够生产出精密程度和一致性无与伦比的高质量和可靠的产品。