VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D是一种离子植入器和显示器，设计用于提供半导体的精确植入。它能够同时进行单离子和多个离子植入阶段，使其成为任何生产过程的有力选择。植入器配有水平晶片处理系统、坚固的扫描角度双面精密控制、晶片温度控制、可调高压参数。此外，TEL 350D还配备了用于剂量控制和均匀性的高性能数字离子束分析仪。VARIAN 350D有一系列可调参数，能够植入正负离子。它还配备了总共10个通道，以便允许不同材料类型和同位素同时运行。双面控制采用独特的C形光束准直仪，提高了扫描角度的精度，并通过可调电压和电流参数提高了植入剂量的均匀性。TOKYO ELECTRON 350D允许两到四毫米直径的短植入，它的多功能性使得它适合植入多种材料，如磷、砷、硼、的、和的。350D晶圆处理系统通过其自动集中、对准和扫描功能,有助于确保最高级别的质量控制。此外，晶圆温度控制允许均匀的表面和提高稳定整个植入过程。数字离子束分析仪提供剂量控制和均匀性以及实时反馈，从而提高精度。最后，VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D配备了业界领先的360°光束覆盖监测系统，确保了完全可追溯的植入过程，并在完成操作后生成了深入的报告。这种前所未有的控制水平使得TEL 350D成为半导体精密植入的有力选择。